0371-86531637
产品型号：
0371-86531637
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主真空室 |
球型结构，尺寸Ø 450mm |
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进样室 |
圆筒型立式结构，尺寸Ø 150x 150mm |
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真空系统配置 |
主真空室 |
分子泵与机械泵，阀门 |
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进样室 |
分子泵与机械泵（与主真空室共用），阀门 |
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极限压力 |
主真空室 |
≦6*10-6Pa（经烘烤除气后） |
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进样室 |
≦6*10-3Pa（经烘烤除气后） |
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恢复真空时间 |
主真空室 |
20分钟可达到5*10-3Pa（系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气） |
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进样室 |
20分钟可达到5*10-3Pa（系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气） |
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旋转靶台 |
靶材*大尺寸约60mm；可一次安装4块靶材，可实现公转换靶;每块靶材可自转，转速5~60转/分
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基片加热台 |
样品尺寸 |
Ø51 |
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运动方式 |
基片可连续回转，转速5~60转/分 |
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加热温度 |
基片加热zui高温度800Ｃ±1 C，可控可调 |
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气路系统 |
质量流量控制器1路，充气阀1路 |
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可选部件 |
激光器装置 |
配相干201激光器 |
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激光束扫描装置 |
二维扫描机械平台，执行两自由度扫描 |
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计算机控制系统 |
控制的内容主要有公转换靶，靶自转，样品自转、样品控温、激光束扫描等 |
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设备占地面积 |
主机 |
1800 * 1800mm2 |
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电控柜 |
700 *700mm2（1个）
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