产品介绍
产品概述
我公司是生产真空应用设备的专业厂家，真空
镀膜设备是我公司主要产品之一，随着薄膜应用的普遍，真空镀膜设备的需求量也越来越大，我公司根据市场需求和自身的雄厚技术实力，生产以下各类真空镀膜设备。
真空蒸发镀膜设备
主要用于塑胶、石膏、陶瓷、玻璃、金属等真空处理，提高制品的装饰性。
设备基本构成：
-
1.真空室体
-
2.工件架及小车
-
3.真空系统
-
4.蒸发系统
-
5.气动系统
-
6.控制系统
-
7.冷却系统
主要技术参数：
-
1.镀膜室尺寸：Φ1400mmx1900mm/Φ1600mmx1900mm(也可根据用户另行设计）
-
2.工件架有效装载尺寸：Φ350mm x 1600mm/ Φ450mmx1600mm
-
3.极限真空：2x10a
-
4.漏率：<0.1Pa.L/S
-
5.抽空时间：从大气到2x10≤10min(清洁，空载）
-
6.蒸发功率：20kW
多弧离子镀膜设备
主要用于在金属材料及非金属材料表面镀覆Tin，Tic及其他膜层,以提高制品表面硬度，耐磨性和抗腐蚀性能，并提高装饰性。
设备基本构成：
-
1.真空镀膜室
-
2.工件转架及传动系统
-
3.真空系统
-
4.多弧蒸发系统
-
5.高压轰击系统
-
6.偏压系统
-
7.烘烤加热系统
-
8.充气系统
-
9.冷却水系统
-
10.气动系统
-
11.电控系统
主要技术参数：
-
1.真空镀膜室内腔尺寸：Φ1000mmx1500mm(也可根据用户要求定）
-
2.工件架有效装载尺寸：Φ240×1000mm×6轴
-
3.工件架转速：公转：0~4r/min,自转：0〜15r/min
-
4.极限真空：1.3×10Pa(清洁，空载）
-
5.工作本底真空：6.6x1OPa(清洁，空载）
-
6.工作真空：1.33Pa~1.3x10Pa
-
7.漏率：≤0.1Pa.L/S
-
8.二次恢复时间：≤15min
-
9.多弧源：功率2kW,数量10个
-
10.烘烤加热：Mx300℃,加热功率：20kW
-
11.轰击电压：0-1000V
-
12.负偏压：300~500V
设备特点
-
1、自动化程度高，能够严格按照设定的工艺曲线实现升温、保温、降温。
-
2、控温精度高，炉温均匀性好。
-
3、真空机组抽速大，极限真空高。
空心阴极离子镀膜机
该类设备主要用于Tin,Tic等硬膜的镀制，使制品表面硬度、耐磨性等提高，并提高装饰性。
设备基本构成：
-
1.真空镀膜室
-
2.工件转架及传动系统
-
3.HCD枪
-
4.坩埚
-
5.聚焦线圈
-
6.高压轰击系统
-
7.烘烤加热系统
-
8.充气系统
-
9.气动系统
-
10.冷却水系统
-
11.电控系统
主要技术参数：
-
1.真空室尺寸：Φ1000mmx1300mm(也可根据用户要求定）
-
2.极限真空：2x10Pa
-
3.工作真空度：1.33-1.3x10Pa
-
4.漏率：≤0.1Pa.L/S
-
5.烘烤加热：max550℃
-
6.HCD枪功率:30kW
-
7.工件偏压：0~60V
-
8.轰击电压：0-1000V
