产品介绍
产品概述
我公司是生产真空应用设备的专业厂家,真空镀膜设备是我公司主要产品之一,随着薄膜应用的普遍,真空镀膜设备的需求量也越来越大,我公司根据市场需求和自身的雄厚技术实力,生产以下各类真空镀膜设备。
真空蒸发镀膜设备
主要用于塑胶、石膏、陶瓷、玻璃、金属等真空处理,提高制品的装饰性。
设备基本构成:
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1.真空室体
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2.工件架及小车
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3.真空系统
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4.蒸发系统
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5.气动系统
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6.控制系统
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7.冷却系统
主要技术参数:
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1.镀膜室尺寸:Φ1400mmx1900mm/Φ1600mmx1900mm(也可根据用户另行设计)
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2.工件架有效装载尺寸:Φ350mm x 1600mm/ Φ450mmx1600mm
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3.极限真空:2x10a
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4.漏率:<0.1Pa.L/S
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5.抽空时间:从大气到2x10≤10min(清洁,空载)
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6.蒸发功率:20kW
多弧离子镀膜设备
主要用于在金属材料及非金属材料表面镀覆Tin,Tic及其他膜层,以提高制品表面硬度,耐磨性和抗腐蚀性能,并提高装饰性。
设备基本构成:
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1.真空镀膜室
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2.工件转架及传动系统
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3.真空系统
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4.多弧蒸发系统
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5.高压轰击系统
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6.偏压系统
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7.烘烤加热系统
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8.充气系统
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9.冷却水系统
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10.气动系统
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11.电控系统
主要技术参数:
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1.真空镀膜室内腔尺寸:Φ1000mmx1500mm(也可根据用户要求定)
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2.工件架有效装载尺寸:Φ240×1000mm×6轴
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3.工件架转速:公转:0~4r/min,自转:0〜15r/min
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4.极限真空:1.3×10Pa(清洁,空载)
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5.工作本底真空:6.6x1OPa(清洁,空载)
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6.工作真空:1.33Pa~1.3x10Pa
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7.漏率:≤0.1Pa.L/S
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8.二次恢复时间:≤15min
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9.多弧源:功率2kW,数量10个
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10.烘烤加热:Mx300℃,加热功率:20kW
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11.轰击电压:0-1000V
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12.负偏压:300~500V
设备特点
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1、自动化程度高,能够严格按照设定的工艺曲线实现升温、保温、降温。
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2、控温精度高,炉温均匀性好。
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3、真空机组抽速大,极限真空高。
空心阴极离子镀膜机
该类设备主要用于Tin,Tic等硬膜的镀制,使制品表面硬度、耐磨性等提高,并提高装饰性。
设备基本构成:
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1.真空镀膜室
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2.工件转架及传动系统
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3.HCD枪
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4.坩埚
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5.聚焦线圈
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6.高压轰击系统
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7.烘烤加热系统
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8.充气系统
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9.气动系统
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10.冷却水系统
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11.电控系统
主要技术参数:
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1.真空室尺寸:Φ1000mmx1300mm(也可根据用户要求定)
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2.极限真空:2x10Pa
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3.工作真空度:1.33-1.3x10Pa
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4.漏率:≤0.1Pa.L/S
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5.烘烤加热:max550℃
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6.HCD枪功率:30kW
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7.工件偏压:0~60V
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8.轰击电压:0-1000V